2013年5月23日星期四

研究人员用二硫化钼发出一种半导体

在北卡罗莱纳州立大学的研究人员已经开发出一种新技术,创造高品质的半导体薄膜在原子尺度-这意味着电影是只有一个原子厚。该技术可用于创建这些薄膜进行 了大规模的,足以大衣晶片的两英寸宽或更大, 这可以被用来按比例下降到目前的半导体技术在原子尺度-激光器,发光二极管(发光二极管),电脑芯片,任何东西,说:“的麟游曹博士,材料科学与工程助理 教授在北卡罗来纳州和资深作者的工作的一纸。“人们一直在谈论这个概念很长一段时间,但是这是不可能的。有了这个发现,我认为这是可能的。“ 研究人员曾与硫化钼(MoS2),三廉价的半导体材料,具有电子和光学特性,已在半导体行业中使用的材料相似。然而,二硫化钼(MoS2)是其它半导体材 料的不同,因为它可以“生长”在不损害其性能的情况下只有一个原子厚的层, 在新技术中,研究人员硫和氯化钼粉末放置在炉中,逐渐升温到850度摄氏温度,蒸发粉末。这两种物质在高温下发生反应,形成二硫化钼。蒸汽,同时仍然在高 温下,然后淀积到衬底上的一薄层。

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